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大型設備基盤センター 物理・表面計測系

光電子分光室

光電子分光装置

光電子分光装置写真

設置場所

大型設備基盤センター(22号館) 4階409室

装置管理者・連絡先

この装置に関する相談・お問い合わせは
xps***adm.nitech.ac.jp(メールをくださる時 *** を @ に変換して下さい)
までお寄せください。 この装置の設備取扱責任者、相談員、オペレーターは、
人員配置にてご確認ください。
2013年9月よりメールアドレスが変更しました。

原理


本装置は細束軟X線を物質に照射し、放出される光電子のエネルギー分析を行ない、元素の同定、定量、状態、分布などを調べるものである。あらゆる固体物質について微小領域の分析が可能である。 上図は本装置の概念図である。



装置性能および仕様

光電子分光装置 X−probe

SSX−100(Surface Science Instruments社製)
X線源 集光型モノクロメータによる単色AlKα線
スポットサイズ 0.15〜1mmΦ 4段階可変(0.15/0.30/0.60/1.0)
検出器 128チャンネル位置敏感検出器
エッチングイオン銃 Leybolt-Heradeus社製
加速電圧      : 0〜5kV連続可変
ラスタースキャン範囲: 5mm×5mm以内
電子中和銃 0〜20eV連続可変
電子エネルギー分析器 半球静電方式
結合エネルギー分析範囲 : 0〜1000eV
エネルギー分解能    : 0.05eV
Ag 3d5/2ピークの半値幅最少: 0.58eV
試料ステージ 30mmΦ、XYZ方向移動、360°回転
電子取出し角度0〜90゜設定可能
試料温度−150℃〜+500℃測定可能
試料分析室 真空度(ベース圧)1×10−10Torr
イオンポンプおよびチタンサブリメーションポンプ使用
試料導入室 真空度1×10−8Torr
ターボポンプ使用。真空中での試料の表面研磨可能
試料用顕微鏡 試料位置確認のため、倍率5〜50倍
データ処理機能 [ ハードウェア ] HP9000シリーズモデル310
[ ソフトウェア ] ピークの同定、定量分析、深さ方向分析、
ピーク分離、その他グラフィックス等多数
測定データの配布 アスキーデータに変換し、メールにて取得可能

付属装置



分析試料

試料は薄板状(10mm×10mm×0.5mm)を標準とするが、試料ステージに保持できるものであれば形状は問わない。 針状、破片状、粉体状のものも工夫すれば測定できる。広く金属、半導体、セラミックス、無機、有機材料、その他の物質を対象とする。



利用方法及び利用料金(学内)

ポータル内の機器分析受付システムから申請してください。
システムへのアクセス方法については学内利用案内をご確認ください。
通常1試料の測定には4時間ないし8時間を要します(測定内容によっても異なる)。測定並びにデータ処理は担当者に一任されたく、測定されたデータは、アスキーファイル( .prn )に変換し、メールにてお渡しします。

利用料金は、学内利用料金表をご参照ください。


学外の方へ

ご相談、または受託試験を希望される学外の方は、受託試験案内をご覧下さい。




         
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