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大型設備基盤センター 物理・表面計測系

光電子分光室

X線光電子分光装置

X線光電子分光装置写真

Sample

設置場所

大型設備基盤センター(22号館) 3階317室

装置管理者・連絡先

この装置に関する相談・お問い合わせは

xps *** adm.nitech.ac.jp ( *** を @ に変換)まで。

この装置の設備取扱責任者、相談員、オペレーターは、
人員配置にてご確認ください。
2013年9月よりメールアドレスが変更しました。

原理


本装置は細束軟X線を物質に照射し、放出される光電子のエネルギー分析を行ない、元素の同定、定量、状態、分布などを調べるものである。あらゆる固体物質について微小領域の分析が可能である。 上図は本装置の概念図である。



装置性能および仕様

X線光電子分光装置 VersaProbe

PHI−5000(ULVAC-PHI社製)
X線源 単色化Alアノード
スポットサイズ 10μm〜100μm±10μm
検出器 静電半球型エネルギーアナライザーマルチチャンネルディテクター
結合エネルギー分析範囲 : 0〜1400eV
Ag 3d5/2ピークの半値幅最少: 0.5eV
帯電中和 低エネルギー電子とイオンの同時照射
データ処理機能 [ ハードウェア ] HP9000シリーズモデル310
[ ソフトウェア ] ピークの同定、定量分析、深さ方向分析、
ピーク分離、その他グラフィックス等多数
測定データの配布 ASCII(csv)に変換し、メールにて取得可能


Sample

分析試料

試料は薄板状(10mm×10mm×0.5mm)を標準とするが、試料ステージに保持できるものであれば形状は問わない。 針状、破片状、粉体状のものも工夫すれば測定できる。広く金属、半導体、セラミックス、無機、有機材料、その他の物質を対象とする。



利用方法及び利用料金(学内)

ポータル内の機器分析受付システムから申請してください。
システムへのアクセス方法については学内利用案内をご確認ください。
通常1試料の測定には3時間程度を要します(測定内容によっても異なる)。測定並びにデータ処理は担当者に一任されたく、測定されたデータは、ASCII(csv)に変換し、メールにてお渡しします。

利用料金は、学内利用料金表をご参照ください。


学外の方へ

ご相談、または受託試験を希望される学外の方は、受託試験案内をご覧下さい。




         
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