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大型設備基盤センター 物理・表面計測系

X線分析室

X線マイクロアナライザー写真

設置場所

大型設備基盤センター(22号館) 4階401室

装置管理者・連絡先

この装置に関する相談・お問い合わせは
xrd***adm.nitech.ac.jp (メールをくださる時 *** を @ に変換して下さい)
までお寄せください。 この装置の設備取扱責任者、相談員、オペレーターは、
人員配置にてご確認ください。
2013年9月よりメールアドレスが変更しました。

原理

X線回折法は物質内部の状態を知る有力な手段である。物質は気体,液体,固体の三体に分けられ固体物質は更に結晶,非晶質とに分けられる。結晶は原子が3次元網目状に周期的配列をして格子を形成しているが,非晶質ではこの周期性がない。X線回折法は主として結晶を対象にしているが,非晶質固体や液体の状態分析の研究にも使用される。  
今,結晶にX線を照射すると,X線は電子によって散乱され,互いに干渉しあって特定方向へ強い回折線を生ずる。この時,入射X線の波長λ,格子の面間隔d,格子面と入射X線の角度θの間に,2dsinθ=nλの関係が成り立ちこれをBraggの条件と呼ぶ。上図参照。結晶には格子の方向により多数の面間隔の異なる格子面がある。粉末結晶では,あらゆる方向に結晶が向いているので,これらの格子面が回折条件を満足する方向に向いている結晶は必ず存在する。

従って粉末X線回折法では多数の異なる格子面からの回折線を同時に得ることができ,λが既知のX線を用いれば観測された回折線と入射X線とのなす角度2θからそれぞれのdを求めることができる。一方,単結晶では,格子面と入射X線のなす角度がBraggの条件を満たすように設定する必要がある。


装置性能および仕様

X線回折装置 リガク SmartLab

  • X線発生装置:定格9kW,Cuターゲット
  • 入射光学系:集中法または平行法,Ge(220)2結晶および4結晶
  • 受光光学系:ソーラースリット,グラファイトモノクロメータ,Ge2結晶アナライザ
  • 検出器:シンチレーションカウンタ,一次元および二次元半導体検出器
  • 測定の種類:2θ−θ,ロッキングカーブ,逆格子空間マッピング,極点,反射率


X線回折装置 リガク RINT−2100型

  • X線発生装置:定格2kW,Cu管球
  • 入射光学系:集中法
  • 受光光学系:ソーラースリット,グラファイトモノクロメータ
  • 検出器:シンチレーションカウンタ
  • 測定の種類:2θ−θ



利用方法及び利用料金(学内)

ポータル内の機器分析受付システムから申請してください。
システムへのアクセス方法については学内利用案内をご確認ください。


利用料金は、学内利用料金表をご参照ください。


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